Friday, December 08, 2006

 

試作チップ6(90nm)

リンコンフィギャラブルデバイスの試作。 密山先生とともに研究を進めています。現在、M2の高橋君が測定中。

プロセス: 90nm CMOS6層銅配線プロセス
チップサイズ: 2.4x2.4mm
トランジスタ数: 700,000トランジスタ
ゲート数: 175,000ゲート
メモリ量: 6.7kbyteメモリ
設計者: 高橋君、密山先生、更田君、橋本

VDEC年報2006の記事です。

チップ題目: メディア処理向け小面積リコンフィギュラブルプロセッサ (AS9006_5)
チップ概要:
従来のリコンフィギュラブルプロセッサは,高い性能と柔軟性を併せ持つ反面,
専用回路と比較して遥かに大きい回路面積が課題となっている.そこで,対象
アプリケーションを動画像復号化処理に絞りアーキテクチャの効率化を図るこ
とで,従来アーキテクチャと比較して大幅な小面積化を実現するリコンフィギュ
ラブルプロセッサを提案してきた.本試作では,検証用回路も含んたプロトタ
イプチップを試作した.一部回路の不具合により,リコンフィギュラブルプロ
セッサ全体としての動作は確認できなかったが,提案アーキテクチャの実装可
能性・有効性を確認することができた.また,基板バイアスによる特性変化を
評価するTEGも搭載し,測定により基本特性に関する知見を得た.



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